Unsere CREAMET^® 900 E verfügt über einen vertikalen Kammeraufbau und bis zu zwei Elektronenstrahlverdampfer. Die Waferschichtdickenhomogenität beträgt<0,5%, ein aktiver Schichtendickensensor ist integriert. Auf Wunsch können wir die CREAMET^® 900 E mit Ätz- oder Heizsystemen, Sputterquellen oder einem Arc-Verdampfer ausgestatten. Unsere CREAMET^® 900 E eignet sich besonders zur Beschichtung von 3’’ bis 6’’ Wafer, zur EMV-Beschichtung und zur Erzeugung von optischen Schichten.